기술TRL 3소재·공정전기·전자자체 판매
고종횡비 컨택홀 식각 공정에 적용 가능한 적응형 펄스 공정 장치 및 방법, 이를 구현하기 위한 프로그램이 저장된 기록매체 및 이를 구현하기 위해 매체에 저장된 컴퓨터프로그램
반도체 식각 공정
TRL 3 / 9 · 기능 및 개념 검증
기술 요약반도체 고종횡비 컨택홀 식각 공정에서 발생하는 식각 중단 현상과 효율 저하는 3D V-NAND 제조의 큰 난제입니다. 본 기술은 식각 부산물의 특정 광신호를 기반으로 듀티 사이클 등 제어 변수를 실시간 조정하는 적응형 펄스 공정 장치 및 방법을 제공합니다. 이를 통해 식각 효율을 극대화하고 식각 중단 현상을 해결하여, 반도체 생산성 향상에 기여합니다. 국가 핵심 산업의 기술적 우위를 선점하는 데 이바지합니다.
기술 정보
- 기술 분야
- 반도체 식각 공정
- 기술완성도
- TRL 3 (기능 및 개념 검증)
- 특허 등록번호
- 10-2587031-0000
- 출원일
- 2021.06.01
- 대표 연구자
- 유신재 교수 · 충남대학교 물리학과
- 판매 유형
- 자체 판매